所長弁理士
宮園 博一
Hirokazu Miyazono
| 1985年3月 | 金沢大学工学部機械工学科卒業 |
|---|---|
| 1985年4月〜1989年1月 | 松下電器産業株式会社（現パナソニック株式会社）で生産設備（メカトロ）設計担当 |
| 1989年2月〜1997年12月 | 深見特許事務所で主に機械・半導体・メカトロ・材料の国内外出願を担当 |
| 1993年11月 | 日本弁理士登録 |
| 1998年1月〜1999年1月 | 米国ワシントンD.C.のArmstrong, Westerman, Hattori, McLeland & Naughton法律事務所で米国特許実務研修 |
| 1998年11月 | 98年度米国弁理士（パテントエージェント）試験合格 |
| 1999年2月〜 | 宮園特許事務所開設 |
弁理士
田中 祐介
Yusuke Tanaka
| 2004年 | 東京大学工学部マテリアル工学科卒業 |
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| 2007年 | 弁理士登録 業務担当分野：機械、制御、材料、化学、意匠、商標 |
弁理士
大日方 崇
Takashi Obinata
| 2004年 | 金沢大学工学部機能機械工学科卒業 |
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| 2007年 | 弁理士登録 業務担当分野：機械、制御、材料、メカトロニクス（ロボット）、意匠、商標 |
弁理士
藤本 直史
Naofumi Fujimoto
| 2000年 | 北海道大学大学院工学研究科 社会基盤工学専攻 |
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| 2009年 | 弁理士登録 業務担当分野：機械、制御、材料、土木、意匠、商標 |
弁理士
林 陽和
Akikazu Hayashi
| 2006年 | 東京大学理学部情報科学科中退 |
|---|---|
| 2010年 | 弁理士登録 業務担当分野：電気、制御、コンピュータ、ネットワーク通信、意匠、商標 |
弁理士
田中 達哉
Tatsuya Tanaka
| 2005年 | 東京工業大学大学院理工学研究科 化学工学専攻 |
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| 2010年 | 弁理士登録 業務担当分野：機械、制御、化学、意匠、商標 |
弁理士
西田 親平
Shinpei Nishida
| 2004年 | 京都大学大学院理学研究科 化学専攻 |
|---|---|
| 2011年 | 弁理士登録 業務担当分野：機械、制御、化学、意匠、商標 |